全自動(dòng)離子濺射儀是一種緊湊的臺(tái)式涂層系統(tǒng)，特別適用于掃描電子顯微鏡成像中非導(dǎo)電樣品的高質(zhì)量涂層。樣品的干燥和清潔是離子濺射涂層的基本要求。如有必要，應(yīng)在交換樣品和陰極的位置通過(guò)火花放電清潔樣品表面，然后在濺射涂層之前恢復(fù)樣品。鐵、鎳、銅和鉛常用作儀器的陰極材料。有時(shí)，電硬金、鉑、鈀、銦和其他金屬也可以用作陰極材料。
全自動(dòng)離子濺射儀的使用說(shuō)明：
1、一般來(lái)說(shuō)，工作距離是可調(diào)節(jié)的。距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。
2、通過(guò)控制真空壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)離子電流的大小。真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子晶粒越粗，電子轟擊樣品(陽(yáng)極)產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高，I越小，濺射速度越慢，原子晶粒越小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量也小。
3、加速電壓固定可調(diào)。加速電壓越高，樣品的熱損傷越大。通常使用金屬靶的比例面積。
4、一些熱敏樣品需要在樣品區(qū)冷卻、水冷或珀?duì)柼鋮s；磁控器件也可以像電磁透鏡一樣用于偏轉(zhuǎn)樣品中的電子。當(dāng)然，在這種轉(zhuǎn)型之后，它將增加非常高的成本。你可以在蠟表面濺上一層金屬而不會(huì)造成任何損壞。
5、真空中的雜質(zhì)越多，涂層質(zhì)量越差。通常，金相對(duì)穩(wěn)定，空氣可以用作等離子體氣體源，而許多其他靶需要惰性氣體。
6、氣體的原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射速度越快，但顆粒會(huì)更厚，連續(xù)膜會(huì)更厚。
7、保持真空室的清潔對(duì)高質(zhì)量的涂層非常有益。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)時(shí)間保持極限真空，否則容易倒油。
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